Die Geschichte der PREMA (PRäzisions-Elektronik MAinz) geht auf das Gründungsjahr 1970 und auf die Entwicklung und Produktion von digitalen Messgeräten zurück. Basis dafür waren eigen entwickelte, patentierte hochauflösende Analog-Digital-Wandlungsverfahren (A/D-Wandler) der Gründungsgesellschafter Dr. rer. nat. Hartmut Grützediek und Dr. rer. nat. Joachim Scheerer. Mit diesen Messgeräten gehörte PREMA jahrelang zu den Vorreitern und Marktführern. Nach 30-jähiger erfolgreicher Firmengeschichte wurde Anfang 2000 ein Strategiewechsel von den Messgeräten zur Halbleitertechnologie vollzogen. Die Halbleitertechnologie war zu dieser Zeit bereits Bestandteil des Unternehmens. Der Bereich Messgeräte begleitet die PREMA mit Reparaturen und Ersatzteilservice jedoch bis heute.
1970 Gründungsjahr
Entwicklung, Patentierung und Produktion von digitalen Messgeräten (A/D-Wandler) mit Ultrahochauflösung
1977 Start des Geschäftsbereichs Halbleiter-Technologie
Aufbau einer eigenen Waferfertigung mit ASIC-Design und Maskentechnologie
1981 ASIC-Fertigung
ASIC-Fertigung in Bipolartechnik auf 75mm-Wafern für analoge und mixed-signal Schaltungen mit Einsatz in Konsumgütern, Sensorik, Industrieelektronik, Automobilelektronik
1988 Neue Waferfertigungslinie
Realisierung einer neuen Waferfertigungslinie nach dem lokalen Reinraum-Konzept der SEMIC-Zellen und E-Beam-Maskenshop
1991 Neues Unternehmensgebäude
Bezug eines neuen Unternehmensgebäudes mit 8000 m² Produktionsfläche
1996 Start der 150mm-Waferfertigung
1999 Universeller ModuS U6-ASIC-Prozess
Setzt neue Maßstäbe für analog und mixed-signal Schaltungen
2000 Umfirmierung
Aus Präzisions-Elektronik wird PREMA Semiconductor
2002 Produktion von Messgeräten wird beendet
2004 Weitere ModuS U6 Highlights
Neue npn- und pnp-Hochvolt-Transistoren
2007 Photodioden
Einbettung von Photodioden als Sensoren mit verschieden spektralen Empfindlichkeiten
2012 200 mm Wafer
Erweiterung einer Produktionslinie für 200 mm Wafer
2013 Optische Encoder
Einzelne Chips und Komplettlösungen für optische Encoder mit verschiedensten Auflösungen
2016 Antireflexbeschichtung
Entwicklung einer Antireflexbeschichtung für integrierte Photodioden